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![流動合成優(yōu)勢及間歇反應轉換為連續(xù)流動]()
流動合成優(yōu)勢及間歇反應轉換為連續(xù)流動
與傳統(tǒng)的分批合成相比，在各種化學反應中應用流動化學具有許多潛在的優(yōu)勢。流動化學提供了許多潛在的好處，但將間歇反應轉變?yōu)檫B續(xù)流動可能是一個復雜且具有挑戰(zhàn)性的過程。 通常需要修改已建立的批處理程序中使用的方法和試劑。 必須特別注意避免形成固體形式的中間體或最終產品，這會阻礙出口流動并阻礙流動過程的連續(xù)性。 主要反應參數，如反應時間（流動過程中的停留時間）、溫度、試劑與最終產率的比例以及產品的純度通常需要重新評估和優(yōu)化。 這主要是由于使用了溶解固體試劑、中間體或最終產品所需的溶劑，但也會顯著影響反應的動力學和熱力學。
2022-04-12
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![流動化學系統(tǒng)主要組成部分]()
流動化學系統(tǒng)主要組成部分
諸如沉淀和系統(tǒng)與試劑的兼容性等問題，將批處理方法轉換為流動化學可能很復雜。 通常，由于試劑經過修改以與流動化學過程兼容，因此需要重新優(yōu)化該方法。 由于流動化學可能不會對所有反應都有益，因此只有在可以實現(xiàn)明顯的好處（例如，提高安全性）時，將已建立的批處理過程更改為連續(xù)流動才有意義。
2022-04-12
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![使用流動反應器連續(xù)合成精密金納米粒子]()
使用流動反應器連續(xù)合成精密金納米粒子
使用檸檬酸鹽還原化學在流動反應器中連續(xù)合成金納米粒子 (AuNPs)。反應器結垢是單相實驗中的一個主要問題，它影響了AuNP尺寸、尺寸分布和反應產率的一致性、重現(xiàn)性和精確控制。結垢的主要原因是在反應器表面附近發(fā)生異相成核反應，導致材料在那里生長和積累。通過將與水不混溶的硅油引入優(yōu)先潤濕反應器表面的系統(tǒng)，解決了結垢問題。與單相流系統(tǒng)相比，雙相流實驗中產生的 AuNPs 的尺寸分布明顯更窄（PDI：0.07 ± 0.01），產率更高且更一致（約 88%），重現(xiàn)性為 ±6.4%。平均粒徑。
2022-03-14
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![流動光化學：Si-H 活化]()
流動光化學：Si-H 活化
有機硅烷在藥物化學和材料科學中是有用的功能。硅中心自由基可以通過氫原子轉移 (HAT) 以一種直接的策略來激活氫化硅 (Si-H)，通過以下任一方式產生：(i) 直接 HAT 催化，(ii) 間接 HAT 事件(iii) ）質子耦合電子轉移（PCET）。
2022-03-08
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![有機合成光化學的技術創(chuàng)新八：流動光化學 -O2氧化]()
有機合成光化學的技術創(chuàng)新八：流動光化學 -O2氧化
Alemán、Cabrera 和同事使用 Pt(II) 配合物作為連續(xù)流動的光催化劑，研究了可見光介導的硫化物氧化為亞砜（方案 181）。反應首先分批進行，以評估最佳溶劑和鉑催化劑與 EtOH/水 (9:1) 進行反應，使用 Pt(II) 在照射 10 小時（CFL，23 W）后提供定量產率方案 181 中概述的復合物。隨后是 10 個示例中的小底物范圍，產率為 62-98%。在此之后，將反應轉化
2022-03-05
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![有機合成光化學的技術創(chuàng)新七：流動光化學 -光脫羧和-羧化（Photodecarboxylations and -carboxylations）]()
有機合成光化學的技術創(chuàng)新七：流動光化學 -光脫羧和-羧化（Photodecarboxylations and -carboxylations）
從羧酸中光化學擠出 CO2 是化學和區(qū)域選擇性功能化反應的有效策略。這部分是由于與氣態(tài) CO2 的釋放相關的巨大驅動力。 另一方面，在有用化學品的合成中使用 CO2 作為 C1 結構單元為安裝羧酸官能團提供了令人興奮的機會。
2022-03-04
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![有機合成光化學的技術創(chuàng)新六：流動光化學 -(去)鹵化（(De)Halogenation）]()
有機合成光化學的技術創(chuàng)新六：流動光化學 -(去)鹵化（(De)Halogenation）
氟的特點是元素周期表的電負性最高。出于這個原因，材料和藥物化學家使用這種元素來調節(jié)新藥的親脂性和生物利用度并調整聚合物的性質。在牢記氟對環(huán)境和人類健康的影響的同時，開發(fā)更新和更環(huán)保的（脫）氟化方法以及氟烷基化程序非常重要，特別是基于后期功能化方法。在這種情況下，光化學可以被認為是一個關鍵策略。此外，流動技術和氟化學的結合為更輕松、更快速的自動化提供了機會，因為19^F 是快速 NMR 分析的理想選擇。
2022-03-02
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![有機合成光化學的技術創(chuàng)新五：流動光化學 -光裂解和光脫保護（Photocleavage and Photodeprotection）]()
有機合成光化學的技術創(chuàng)新五：流動光化學 -光裂解和光脫保護（Photocleavage and Photodeprotection）
保護基團在合成有機化學領域，特別是在復雜生物活性分子的全合成中具有不可估量的重要性。 理想的保護基團應具有兩個特性：(1) 保護敏感官能團在隨后的母體分子修飾過程中免受不希望的反應， (2) 以高產率和選擇性安裝和去除它。 光裂解是官能團去保護的理想策略，因為它通常與更傳統(tǒng)的熱或酸堿型去保護策略正交。
2022-03-01
